Cristin-prosjekt-ID: 2361701
Sist endret: 7. august 2020, 15:58

Cristin-prosjekt-ID: 2361701
Sist endret: 7. august 2020, 15:58
Prosjekt

A new Lithography Method

prosjektleder

Bodil Holst
ved Institutt for fysikk og teknologi ved Universitetet i Bergen

prosjekteier / koordinerende forskningsansvarlig enhet

  • Universitetet i Bergen

Tidsramme

Avsluttet
Start: 1. januar 2014 Slutt: 31. desember 2016

Beskrivelse Beskrivelse

Tittel

A new Lithography Method

prosjektdeltakere

prosjektleder
Aktiv cristin-person

Bodil Holst

  • Tilknyttet:
    Prosjektleder
    ved Institutt for fysikk og teknologi ved Universitetet i Bergen

Ingve Simonsen

  • Tilknyttet:
    Lokalt ansvarlig
    ved Institutt for fysikk ved Norges teknisk-naturvitenskapelige universitet
Inaktiv cristin-person

Arivazhagan Valluvar Oli

  • Tilknyttet:
    Prosjektdeltaker
    ved Universitetet i Bergen
1 - 3 av 3

Resultater Resultater

Nanometer-Resolution Mask Lithography with Matter Waves: Near-Field Binary Holography.

Nesse, Torstein; Simonsen, Ingve; Holst, Bodil. 2019, Physical Review Applied. CNRS, NTNU, UIBVitenskapelig artikkel

Optimal design of grid-based binary holograms for matter-wave lithography.

Nesse, Torstein; Banon, Jean-Philippe; Holst, Bodil; Simonsen, Ingve. 2017, Physical Review Applied. CNRS, NTNU, UIBVitenskapelig artikkel

Atomic resolution imaging of beryl: an investigation of the nano-channel occupation.

Valluvar Oli, Arivazhagan; Schmitz, F.D.; Vullum, Per Erik; Van Helvoort, Antonius; Holst, Bodil. 2016, Journal of Microscopy. SINTEF, NTNU, TYSKLAND, UIBVitenskapelig artikkel
1 - 3 av 3