Cristin-resultat-ID: 1880160
Sist endret: 10. februar 2021, 12:15
NVI-rapporteringsår: 2020
Resultat
Vitenskapelig artikkel
2020

Selective etching of nanostructured a-Si:Al and its effect on porosity, Al gradient and surface oxidation

Bidragsytere:
  • Torunn Kjeldstad
  • Annett Thøgersen
  • Marit Synnøve Sæverud Stange
  • Ingvild Julie Thue Jensen
  • Ola Nilsen
  • Augustinas Galeckas
  • mfl.

Tidsskrift

Thin Solid Films
ISSN 0040-6090
e-ISSN 1879-2731
NVI-nivå 1

Om resultatet

Vitenskapelig artikkel
Publiseringsår: 2020
Volum: 702
Artikkelnummer: 137982
Open Access

Importkilder

Scopus-ID: 2-s2.0-85082711076

Beskrivelse Beskrivelse

Tittel

Selective etching of nanostructured a-Si:Al and its effect on porosity, Al gradient and surface oxidation

Sammendrag

Nanoporous amorphous silicon (a-Si) with

Bidragsytere

Torunn Kjeldstad

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Fysisk institutt ved Universitetet i Oslo
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo

Annett Thøgersen

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS

Marit Synnøve Sæverud Stange

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS

Ingvild Julie Thue Jensen

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS

Ola Nilsen

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Kjemisk institutt ved Universitetet i Oslo
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo
1 - 5 av 7 | Neste | Siste »