Info
Meny
English
Logg inn
Søk etter prosjekter, resultater og personer
Søk etter prosjekter, resultater og personer
Historikk
Cristin-resultat-ID:
1880160
Sist endret:
10. februar 2021, 12:15
NVI-rapporteringsår:
2020
Resultat
Vitenskapelig artikkel
2020
Selective etching of nanostructured a-Si:Al and its effect on porosity, Al gradient and surface oxidation
Torunn Kjeldstad
Annett Thøgersen
Marit Synnøve Sæverud Stange
Ingvild Julie Thue Jensen
Ola Nilsen
Augustinas Galeckas
mfl.
Tidsskrift
Tidsskrift
Thin Solid Films
ISSN 0040-6090
e-ISSN 1879-2731
NVI-nivå 1
Finn i kanalregisteret
Om resultatet
Om resultatet
Vitenskapelig artikkel
Publiseringsår: 2020
Volum: 702
Artikkelnummer: 137982
Open Access
Lenker
Lenker
original online (doi)
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2020.137982
Institusjonsarkiv
hdl.handle.net/10852/83191
Importkilder
Importkilder
Scopus-ID: 2-s2.0-85082711076
Beskrivelse
Beskrivelse
Engelsk
Tittel
Selective etching of nanostructured a-Si:Al and its effect on porosity, Al gradient and surface oxidation
Sammendrag
Nanoporous amorphous silicon (a-Si) with
Bidragsytere
Bidragsytere
Torunn Kjeldstad
Forfatter
ved Fysisk institutt ved Universitetet i Oslo
Forfatter
ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo
Annett Thøgersen
Forfatter
ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS
Marit Synnøve Sæverud Stange
Forfatter
ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS
Ingvild Julie Thue Jensen
Forfatter
ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS
Ola Nilsen
Forfatter
ved Kjemisk institutt ved Universitetet i Oslo
Forfatter
ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo
1
-
5
av
7
|
Neste
|
Siste »