Cristin-resultat-ID: 1532879
Sist endret: 19. februar 2018, 14:16
NVI-rapporteringsår: 2017
Resultat
Vitenskapelig artikkel
2017

Intense NIR emission in YVO4:Yb3+ thin films by atomic layer deposition

Bidragsytere:
  • Michael Getz
  • Per-Anders Stensby Hansen
  • Øystein Slagtern Fjellvåg
  • Mohammed Amin Karim Ahmed
  • Helmer Fjellvåg og
  • Ola Nilsen

Tidsskrift

Journal of Materials Chemistry C
ISSN 2050-7526
e-ISSN 2050-7534
NVI-nivå 1
Finn i kanalregisteret

Om resultatet

Vitenskapelig artikkel
Publiseringsår: 2017
Volum: 5
Hefte: 33
Sider: 8572 - 8578
Open Access

Lenker

original online (doi)

Institusjonsarkiv

hdl.handle.net/10852/61378

Importkilder

Scopus-ID: 2-s2.0-85028398408

Beskrivelse Beskrivelse

Tittel

Intense NIR emission in YVO4:Yb3+ thin films by atomic layer deposition

Bidragsytere

Aktiv cristin-person

Michael Norderhaug Getz

Bidragsyterens navn vises på dette resultatet som Michael Getz
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Kjemisk institutt ved Universitetet i Oslo
Aktiv cristin-person

Per-Anders Stensby Hansen

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Kjemisk institutt ved Universitetet i Oslo

Øystein Slagtern Fjellvåg

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Kjemisk institutt ved Universitetet i Oslo

Mohammed Amin Karim Ahmed

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Kjemisk institutt ved Universitetet i Oslo
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo

Helmer Fjellvåg

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Senter for materialvitenskap og nanoteknologi ved Universitetet i Oslo
  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Kjemisk institutt ved Universitetet i Oslo
1 - 5 av 6 | Neste | Siste »