Cristin-resultat-ID: 1871727
Sist endret: 10. februar 2021, 11:35
NVI-rapporteringsår: 2020
Resultat
Vitenskapelig artikkel
2020

Towards high-throughput large-area metalens fabrication using UV-nanoimprint lithography and Bosch deep reactive ion etching

Bidragsytere:
  • Christopher Andrew Dirdal
  • Geir Uri Jensen
  • Hallvard Angelskår
  • Paul Conrad Vaagen Thrane
  • Jo Gjessing og
  • Daniel Alfred Ordnung

Tidsskrift

Optics Express
ISSN 1094-4087
e-ISSN 1094-4087
NVI-nivå 2

Om resultatet

Vitenskapelig artikkel
Publiseringsår: 2020
Publisert online: 2020
Volum: 28
Hefte: 10
Sider: 15542 - 15561
Open Access

Importkilder

Scopus-ID: 2-s2.0-85084386378

Beskrivelse Beskrivelse

Tittel

Towards high-throughput large-area metalens fabrication using UV-nanoimprint lithography and Bosch deep reactive ion etching

Bidragsytere

Christopher Andrew Dirdal

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Geir Uri Jensen

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Hallvard Angelskår

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Paul Conrad Vaagen Thrane

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Jo Gjessing

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS
1 - 5 av 6 | Neste | Siste »