Cristin-resultat-ID: 2151207
Sist endret: 15. november 2023, 12:51
NVI-rapporteringsår: 2023
Resultat
Vitenskapelig artikkel
2023

UV-Nanoimprint and Deep Reactive Ion Etching of High Efficiency Silicon Metalenses: High Throughput at Low Cost with Excellent Resolution and Repeatability

Bidragsytere:
  • Christopher Andrew Dirdal
  • Karolina Barbara Milenko
  • Anand Summanwar
  • Firehun Tsige Dullo
  • Paul Conrad Vaagen Thrane
  • Oana Rasoga
  • mfl.

Tidsskrift

Nanomaterials
ISSN 2079-4991
e-ISSN 2079-4991
NVI-nivå 1
Finn i kanalregisteret

Om resultatet

Vitenskapelig artikkel
Publiseringsår: 2023
Publisert online: 2023
Volum: 13
Hefte: 3
Artikkelnummer: 436
Open Access

Lenker

original online (doi)

Importkilder

Scopus-ID: 2-s2.0-85147821329

Beskrivelse Beskrivelse

Tittel

UV-Nanoimprint and Deep Reactive Ion Etching of High Efficiency Silicon Metalenses: High Throughput at Low Cost with Excellent Resolution and Repeatability

Bidragsytere

Christopher Andrew Dirdal

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Karolina Barbara Milenko

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Anand Summanwar

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Firehun Tsige Dullo

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Paul Conrad Vaagen Thrane

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS
1 - 5 av 9 | Neste | Siste »