Info
Meny
English
Logg inn
Søk etter prosjekter, resultater og personer
Søk etter prosjekter, resultater og personer
Historikk
Cristin-resultat-ID:
2151207
Sist endret:
15. november 2023, 12:51
NVI-rapporteringsår:
2023
Resultat
Vitenskapelig artikkel
2023
UV-Nanoimprint and Deep Reactive Ion Etching of High Efficiency Silicon Metalenses: High Throughput at Low Cost with Excellent Resolution and Repeatability
Christopher Andrew Dirdal
Karolina Barbara Milenko
Anand Summanwar
Firehun Tsige Dullo
Paul Conrad Vaagen Thrane
Oana Rasoga
mfl.
Tidsskrift
Tidsskrift
Nanomaterials
ISSN 2079-4991
e-ISSN 2079-4991
NVI-nivå 1
Finn i kanalregisteret
Om resultatet
Om resultatet
Vitenskapelig artikkel
Publiseringsår: 2023
Publisert online: 2023
Volum: 13
Hefte: 3
Artikkelnummer: 436
Open Access
Lenker
Lenker
original online (doi)
https://doi.org/10.3390/nano13030436
Institusjonsarkiv
hdl.handle.net/11250/3136621
Importkilder
Importkilder
Scopus-ID: 2-s2.0-85147821329
Beskrivelse
Beskrivelse
Engelsk
Tittel
UV-Nanoimprint and Deep Reactive Ion Etching of High Efficiency Silicon Metalenses: High Throughput at Low Cost with Excellent Resolution and Repeatability
Bidragsytere
Bidragsytere
Christopher Andrew Dirdal
Forfatter
ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS
Karolina Barbara Milenko
Forfatter
ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS
Anand Summanwar
Forfatter
ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS
Firehun Tsige Dullo
Forfatter
ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS
Paul Conrad Vaagen Thrane
Forfatter
ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS
1
-
5
av
9
|
Neste
|
Siste »