Cristin-resultat-ID: 2166229
Sist endret: 18. januar 2024, 15:22
NVI-rapporteringsår: 2023
Resultat
Vitenskapelig artikkel
2023

Atomic Layer Deposition of Titanium Oxide-Based Films for Semiconductor Applications—Effects of Precursor and Operating Conditions

Bidragsytere:
  • Vladyslav Matkivskyi
  • Oskari Leiviska
  • Sigurd Wenner
  • Hanchen Liu
  • Ville Vahanissi
  • Hele Savin
  • mfl.

Tidsskrift

Materials
ISSN 1996-1944
e-ISSN 1996-1944
NVI-nivå 1
Finn i kanalregisteret

Om resultatet

Vitenskapelig artikkel
Publiseringsår: 2023
Publisert online: 2023
Volum: 16
Hefte: 16
Artikkelnummer: 5522
Open Access

Lenker

original online (doi)

Importkilder

Scopus-ID: 2-s2.0-85168787177

Beskrivelse Beskrivelse

Tittel

Atomic Layer Deposition of Titanium Oxide-Based Films for Semiconductor Applications—Effects of Precursor and Operating Conditions

Bidragsytere

Vladyslav Matkivskyi

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Institutt for materialteknologi ved Norges teknisk-naturvitenskapelige universitet

Oskari Leiviska

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Aalto-yliopisto / Aalto-universitetet

Sigurd Wenner

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Materialer og nanoteknologi ved SINTEF AS

Hanchen Liu

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Aalto-yliopisto / Aalto-universitetet

Ville Vahanissi

  • Tilknyttet:
    Forfatter
    ved Aalto-yliopisto / Aalto-universitetet
1 - 5 av 8 | Neste | Siste »