Historikk

Cristin-resultat-ID: 2210908

Sist endret: 12. januar 2024, 14:09

NVI-rapporteringsår: 2023

Resultat

Vitenskapelig artikkel

2023

High-Rate Epitaxial Growth of Silicon Using Electron Beam Evaporation at High Temperatures

Marit Synnøve Sæverud Stange
Tor Olav Løveng Sunde
Runar Plunnecke Dahl-Hansen
Kalpna Rajput
Joachim Seland Graff
Branson Delano Belle
mfl.

Tidsskrift Tidsskrift

Coatings

ISSN 2079-6412
e-ISSN 2079-6412

NVI-nivå 1

Finn i kanalregisteret

Om resultatet Om resultatet

Vitenskapelig artikkel

Publiseringsår: 2023

Publisert online: 2023

Volum: 13

Hefte: 12

Artikkelnummer: 2030

Lenker Lenker

original online (doi)

https://doi.org/10.3390/coatings13122030

Importkilder Importkilder

Scopus-ID: 2-s2.0-85180733704

Beskrivelse Beskrivelse

Engelsk

Tittel

High-Rate Epitaxial Growth of Silicon Using Electron Beam Evaporation at High Temperatures

Bidragsytere Bidragsytere

Marit Synnøve Sæverud Stange

Forfatter
ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS

Tor Olav Løveng Sunde

Forfatter
ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS

Runar Plunnecke Dahl-Hansen

Forfatter
ved Smart Sensors and Microsystems ved SINTEF AS

Kalpna Rajput

Forfatter
ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS

Joachim Seland Graff

Forfatter
ved Bærekraftig energiteknologi ved SINTEF AS

1 - 5 av 7 | Neste | Siste »